机译:通过溶胶-凝胶法和传统的光刻技术制造的定向耦合器
机译:使用相移光刻技术制造的使用0.2- / spl mu / m栅极MODFET的低电流,低失真宽带放大器
机译:混合常规和干涉光刻技术的小面积直角弯头
机译:常规光学光刻技术制造的0.2μmLDD NMOSFET
机译:迈向个人健康监测:利用纳米压印光刻技术制造的微流体和纳米等离子体传感器检测生物分子
机译:通过纳米压印光刻技术在光纤端面上制造的钟楼近场探头
机译:用于制造薄膜功能装置的常规和不传统的光刻
机译:用于亚100nm通道长度晶体管的X射线光刻技术,采用常规光刻,各向异性蚀刻和斜阴影制作的掩模