elemental semiconductors; plasma CVD; semiconductor growth; semiconductor thin films; silicon; PECVD; Si; gas-phase reaction; light-diluted hydrogen; light-hydrogen dilution; plasma enhanced chemical vapor deposition technique; polycrystalline silicon thin film; radi;
机译:氢对SiCl4 / H-2沉积多晶硅薄膜低温生长的影响
机译:通过SiCl4 / H2 rf等离子体增强化学气相沉积法低温生长多晶硅薄膜
机译:用于制造低温多晶硅的非晶硅薄膜的低成本脱氢系统
机译:通过PECVD从SiCl4光稀释的氢硅薄膜的低温快速生长
机译:在直流鞍场PECVD系统中氢化微晶硅薄膜的生长。
机译:使用H2烧结改善低温多晶硅薄膜晶体管传感器的pH敏感性
机译:薄膜晶体管多晶硅的低温生长过程。
机译:用ECR-pECVD技术高效生长水解非晶硅锗薄膜和器件