field effect transistors; strain control; hole mobility; germanium compounds; silicon; strain engineering; hole mobility enhancement; p-channel field-effect transistors; silicon-germanium; source and drain stressors; strain field; lateral compressive strain component; vertical tensile strain component; transistor design parameters; mole fraction; silicon channel; SiGe;
机译:通过将Al和Hf引入SiO_2 / GeO_2栅叠层中来显着增强金属源极/漏极Ge p沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中的低电场空穴迁移率
机译:单轴应变P沟道金属氧化物半导体场效应晶体管中空穴迁移率的温度依赖性及其物理机制的研究
机译:具有双轴压缩应变的应变GaSb p沟道金属氧化物半导体场效应晶体管的迁移率增强
机译:用于P沟道场效应晶体管的空穴移动性的应变工程
机译:增强有机薄膜晶体管的场效应迁移率。
机译:掺入离子添加剂后共轭聚合物场效应晶体管的电荷载流子迁移率显着提高
机译:具有有效空穴迁移率的应变锗锡(GeSn)P沟道金属氧化物半导体场效应晶体管