current density; electromigration; internal stresses; stress effects; vacancies (crystal); voids (solid); computer-aided simulation; current density; electromigration; mass balance equation; residual stress effect; stress induced voiding; vacancy transport; electromig;
机译:高电流密度下电迁移引起的空洞形态演化的理论分析
机译:LSI互连线上电迁移中残余应力对空位传输的数值分析
机译:利用计算机辅助空位迁移分析预测铜镶嵌互连中应力诱发的空洞可靠性
机译:空位运输的理论分析与电迁移和应力诱导排尿
机译:直接测量电迁移引起的空洞的成核时间和增长率。
机译:超螺旋DNA中应力诱导的B-Z跃迁的理论分析
机译:剩余应力对电迁移时Cu互连空位运输的影响
机译:硼铝复合材料的一般平面应力破坏。第二部分。第一阶段:用于表征硼/铝复合材料的圆柱管的理论分析。第二阶段:用于表征硼/铝复合材料的圆柱管的塑性和组合载荷分析。