integrated circuit interconnections; integrated circuit manufacture; integrated memory circuits; porous materials; adhesion failure; high speed memory device; intermetal dielectric application; low-k film; metal wires; parasitic capacitance; porous methylhydrogens;
机译:低k倍半硅氧烷基金属间介电膜中的辐射诱导电荷俘获
机译:用于VLSI中金属间电介质应用的低k材料的合成与分析
机译:用于VLSI中金属间电介质应用的低k材料的合成与分析
机译:一种基于多孔甲基氢羟基羟基硅氧烷的低k薄膜,具有K〜2.3,用于高速存储器件中的内部电介质应用
机译:控制多孔低k介电膜和UHP气体输送系统中的分子污染物。
机译:用于微和纳米电子应用的低k介电薄膜的热稳定性的宽带介电光谱表征
机译:用于金属间介电应用的低介电常数类聚对二甲苯-F薄膜