gallium compounds; indium compounds; gallium arsenide; III-V semiconductors; semiconductor epitaxial layers; MOCVD coatings; cathodoluminescence; surface morphology; surfactants; vapour phase epitaxial growth; semiconductor growth; lateral epitaxial over;
机译:Si(111)衬底上无掩模外延横向过生长MOCVD GaN层的结构特性
机译:利用MOCVD对InP / GaAs衬底上InP外延横向过生长的表面表征
机译:GaAs和GaSb外延层横向生长的摇摆曲线成像研究
机译:GaAs基材上MOCVD横向外延超出III-V半导体层的表征
机译:操纵高度晶格不匹配的III-V半导体的外延生长:砷化铟及其在砷化镓衬底上的合金。
机译:电子束法表征MOCVD InGaP / GaAs结中界面处多余层的化学性质
机译:在si(111)衬底上的无掩模外延横向过度生长的mOCVD GaN层的结构特性
机译:金属有机化学气相沉积法横向外延生长的GaN非平面衬底的三维微观结构表征