首页> 外文会议> >Magnetic Properties Of Fe Films Deposited By Ar, Kr And Xe Ion Beam Sputtering

【24h】

Magnetic Properties Of Fe Films Deposited By Ar, Kr And Xe Ion Beam Sputtering

机译：Ar，Kr和Xe离子束溅射沉积铁膜的磁性

获取原文

页面导航

著录项
相似文献
相关主题

著录项

来源
《》|1998年|P.145-146|共2页
会议地点
作者
Iwatsubo; S.; Takahashi; T.;
展开▼
作者单位

展开▼
会议组织
原文格式 PDF
正文语种
中图分类无线电电子学、电信技术;
关键词

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Magnetic Properties of Fe Films Deposited by Ion Beam Sputtering Using Ar and Kr Gas [J] . S.Iwatsubo 日本応用磁気学会誌 . 2000,第4a2期

机译：利用Ar和Kr气体离子束溅射沉积Fe薄膜的磁性。
2. Magnetic Properties of Fe Films Deposited by Ion Beam Sputtering Using Ar and Kr Gas [J] . S.Iwatsubo 日本応用磁気学会誌 . 2000,第4a2期

机译：使用Ar和Kr气体通过离子束溅射沉积的Fe膜的磁性
3. Effect of recoiled Ar ions on magnetic properties of Fe films deposited by ion beam sputtering [J] . S.Wwatsubo 日本応用磁気学会誌 . 1999,第4a2期

机译：反冲的Ar离子对离子束溅射沉积的Fe膜磁性能的影响
4. Magnetic Properties Of Fe Films Deposited By Ar, Kr And Xe Ion Beam Sputtering [C] . Iwatsubo S., Takahashi T., Institute of Electric and Electronic Engineer Joint MMM-Intermag Conference . 1998

机译：Ar，Kr和Xe离子束溅射沉积的Fe膜的磁性性能
5. Composition/structure/property relations of ferroelectric lead-lanthanum-titanate thin films deposited by multi-ion-beam reactive sputtering. [D] . Fox, Glen Richard. 1992

机译：通过多离子束反应溅射沉积的铁电钛酸铅镧薄膜的组成/结构/性质关系。
6. Large variation of magnetic properties of amorphous Fe–Zr thin films with Ar pressure during sputtering [O] . Miri Kim, Nark-Eon Sung, Sang Ho Lim -1

机译：溅射过程中无定形Fe–Zr薄膜的磁性随Ar压力的大变化
7. Effect of Ar+ beam sputtering on the magnetic anisotropy of Fe thin films deposited on the MgO(001) substrate [O] . Syed Sheraz Ahmad, Wei He, Yong-Sheng Zhang, 2017

机译：ar +束溅射对mgO（001）衬底上Fe薄膜磁各向异性的影响

Magnetic Properties Of Fe Films Deposited By Ar, Kr And Xe Ion Beam Sputtering

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅