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A Manufacturable Chemical-Mechanical Polish Technology With A Novel Low-Permittivity Stop-Layer For Oxide Polishing

机译：可制造的化学机械抛光技术，带有新型的低介电常数氧化层，用于氧化物抛光

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来源
《》|1993年|P.115-116|共2页
会议地点
作者
Poon; S.; Gelatos; A.;
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正文语种
中图分类无线电电子学、电信技术;
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