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首页> 外文会议>International symposium on semiconductor manufacturing >Control of Fine Particulate and Gaseous Contaminants by UV/photoelectron Method
【24h】

Control of Fine Particulate and Gaseous Contaminants by UV/photoelectron Method

机译：紫外线/光电子法控制细颗粒物和气态污染物

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摘要

Systems for removing particulates and gaseous contaminants using the UV/photoelectron method under atmospheric and low pressure conditions have been investigated and its availability has been demonstrated. This method can be used to design superclean spaces for wafer stockers, and wafer delivering systems in the LSI fabrication process.
机译：已经研究了在大气压和低压条件下使用UV /光电子方法去除颗粒和气态污染物的系统，并证明了其可用性。此方法可用于设计晶圆存放器的超净空间以及LSI制造过程中的晶圆传送系统。

著录项

  • 来源
  • 会议地点 Austin TX(US);Austin TX(US);Austin TX(US)
  • 作者

    Takafumi Seto; Shin Yokoyama; Kikuo Okuyama; Masataka Hirose; Toshiaki Fujii; Hidetomo Suzuki;

  • 作者单位

    Department of Chemical Engineering, Hiroshima University 1-4-1, Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739, Japan;

    Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University 1-4-2, Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739, Japan;

    Department of Chemical Engineering, Hiroshima University 1-4-1, Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739, Japan;

    Research Center for Integrated Systems, Hiroshima University 1-4-2, Kagamiyama, Higashi-Hiroshima 739, Japan;

    Ebara Research Co., Ltd. 4-2-1, Honfujisawa, Fujisawa 251, Japan;

    Ebara Research Co., Ltd. 4-2-1, Honfujisawa, Fujisawa 251, Japan;

  • 会议组织
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 半导体器件制造工艺及设备;
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