Department of Materials Science and Engineering, National Cheng Kung University, Tainan, Taiwan;
机译:等离子体增强化学气相沉积法制备的掺氮和氟的SIOC:H薄膜的结合构型和电学性能。
机译:原料气对等离子体增强化学气相沉积法制备的硅/氮结合类金刚石碳膜性能的影响
机译:脉冲偏压对等离子体增强化学气相沉积法制备的硅/氮结合类金刚石碳膜结构和性能的影响
机译:通过等离子体增强化学气相沉积制备的氮和氟的电气和机械性能掺入有机硅酸盐玻璃
机译:晶格匹配的III-V / IV组半导体异质结构:金属有机化学气相沉积和远程等离子体增强化学气相沉积。
机译:基质类型对等离子体增强化学气相沉积制备垂直石墨烯结构的影响
机译:在紫外线硬化之前通过受控的致孔剂分解来提高超低k SiOCH等离子体增强化学气相沉积玻璃的机械强度