Donghua University, 2999 North People Road, Songjiang, Shanghai, China 201620;
plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD); titanium oxide film; pulsed bias; hydrophobic;
机译:液态给料组成对热等离子体喷涂沉积二氧化钛薄膜形态的影响
机译:脉冲等离子体中沉积在PET箔上的氧化硅阻挡膜:衬底偏压对沉积过程和膜性能的影响
机译:射频溅射在不同偏压下沉积的纳米ZnO薄膜的结构,形貌和光学性质
机译:偏压对等离子体沉积钛氧化钛膜形态和润湿性的影响
机译:通过等离子体增强的金属有机化学气相沉积法制得的锶钛氧化物和钡(1-x)锶钛氧化物外延薄膜。
机译:银对氧化钛薄膜相变和润湿性的影响
机译:基板偏置电压对射频磁控溅射沉积的氮化铪膜性能的影响通过电感耦合氮等离子体辅助辅助