College of Mechanical Electrical Engineering , Nanjing University of Aeronautics Astronautics, Nanjing, China, 210016;
CVD diamond film; cutting tool; electroplated interlayer; interface;
机译:WC-Co与CVD金刚石膜之间的夹层分析
机译:通过RF等离子体反应性脉冲激光烧蚀沉积的氮化硼薄膜作为WC-Co硬质合金和CVD金刚石膜之间的夹层
机译:甲烷对沉积在带WC-Co夹层的高速钢基材上的热丝CVD金刚石膜的影响
机译:WC-CO和CVD金刚石膜中中间层分析
机译:用于超低介电常数层间电介质应用的含氟和碳的PECVD膜和类金刚石碳膜的研究。
机译:在不同TMS流量增量下合成的梯度改性HfC-SiC混合双中间层用于将金刚石涂层沉积到WC-Co基底上
机译:关于在金刚石薄膜到WC-Co基板上的热丝化学气相沉积(HF-CVD)中使用CrN / Cr和CrN中间层