首页> 外文会议>International Conference on IC Design Technology >Sequential 3D: Key integration challenges and opportunities for advanced semiconductor scaling
【24h】

Sequential 3D: Key integration challenges and opportunities for advanced semiconductor scaling

机译:顺序3D:关键的集成挑战和高级半导体缩放的机会

获取原文

摘要

In this paper, we review the current progress on 3D sequential device stacking, highlighting the main integration challenges and the possible technological solutions. Next, we explore the potential benefits of 3D sequential stacking at transistor level, CMOS level and for hybrid circuits.
机译:在本文中,我们回顾了3D顺序设备堆叠的最新进展,重点介绍了主要的集成挑战和可能的技术解决方案。接下来,我们探索在晶体管级,CMOS级以及混合电路中进行3D顺序堆叠的潜在好处。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号