Akita Prefectural Univ., 84-4 Tsuchiya-ebinokuchi, Honjo, Akita 015-0055, Japan;
机译:一种用于无接触力表面抛光的新型磁性抛光液(MPL)-II:金属表面抛光的详细性能
机译:磁性复合液(MCF)抛光工具在金属表面处理中的基本性能
机译:磁性化合物流体抛光液在金属表面非接触抛光中的基本性能
机译:提出了一种用于无接触力表面处理的新型磁性抛光液(MPL):第1部分,磁场下的行为和金属表面处理的基本性能
机译:通过磁浮法抛光(MFP)精加工用于轴承的高级陶瓷球,包括精细抛光,然后进行化学机械抛光(CMP)。
机译:利用旋转磁场开发用于线材的新型超高精度磁研磨加工
机译:一种新型磁场辅助抛光方法及其在微型V型槽镜面精加工中的应用
机译:aEsF / Epa(美国电镀和表面处理/环境保护局)金属表面处理行业污染控制会议(第8次)于1987年2月9日至11日在加利福尼亚州圣地亚哥举行