FUJITSU Microelectron. Ltd., Kuwana;
copper; dielectric materials; electromigration; integrated circuit reliability; large scale integration; manganese compounds; wiring; Cu; MnO; activation energy; capping film; copper wiring encapsulation; deposition conditions; dielectric reliabilities; dielectric stability; interlayer dielectric lifetime; interlayer dielectrics; next-generation technology nodes; semiglobal level; size 45 nm; voltage acceleration factor; wiring reliabilities;
机译:结合锰氧化物封装和自对准氮化硅铜氮化物阻挡层用于未来LSI互连中的铜布线的超薄势垒形成
机译:下一代印刷线路板的纳米锚固铜箔
机译:信号布线:Klippon Connect,用于高密度信号电平的清晰接线
机译:半全球水平铜线封装,以增强下一代技术节点的布线和介电可信度
机译:无障碍电介质的开发及其与铜的集成,用于纳米器件布线。
机译:微电子布线中的多孔介电材料
机译:高密度包装技术的趋势1.关于堆积多层印刷配线板中铜路电路可靠性的一些考虑因素。
机译:实施更清洁的印刷线路板技术:表面处理。环境印刷线路板项目设计。