Department of Materials Science and Engineering, National Chiao Tung University, Hsinchu 300, Taiwan, R.O.C;
机译:Ru / WN_X双层作为铜互连的扩散阻挡层
机译:与其他阻隔材料相比,金属有机化学气相沉积-WN_X的扩散阻隔性能
机译:使用无氟钨金属有机前驱体和NH_3等离子体作为Cu扩散阻挡层的WN_x薄膜的原子层沉积
机译:使用Wn_x作为扩散屏障互连InGaP HBT的铜金属化
机译:用于ULSI互连的难熔过渡金属基铜扩散阻挡层的原子层沉积和性能。
机译:自由能垒对电沉积铜二维扩散受限聚集形态中图案转变的影响
机译:无金的全铜金属化InGaP / GaAs udHBT
机译:非晶金属合金:铜金属化薄膜扩散阻挡层的新进展