Institute of Semiconductor Physics SD RAS, 13, prosp. Ak. Lavrent'eva, Novosibirsk 630090, Russia;
机译:生成/复合过程以及界面“穿刺”引起的泄漏电流对单极直接键合半导体结构电学特性的影响
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机译:高导热系数的Si-on-SiC直接键合晶片上的Si金属氧化物半导体场效应晶体管
机译:单极直接键合半导体结的改进刻画方法
机译:不同接口钝化参数测量和模拟高频电容电压曲线的比较与评价
机译:单个有机半导体中pn结界面处的光转换机理
机译:使用高温氢退火'“Appl,响应4H-SiC n型金属氧化物半导体结构中的”关于“界面状态密度的界面密度的降低。”物理。吧。 78,4043(2001)