IEMN University of Lille CNRS Centrale Lille UMR 8520 - IEMN Lille 59000 France;
ISEN Univ. Valenciennes UMR 8520 - IEMN Lille 59000 France;
ISEN Univ. Valen;
aluminium compounds; gallium arsenide; high electron mobility transistors; III-V semiconductors; indium compounds; millimetre wave transistors;
机译:通过在75 nm栅极InAlAs / InGaAs高电子迁移率晶体管中使用扩展的漏极侧凹槽结构获得的最大振荡频率为1.3 THz
机译:利用电子束抗蚀剂工艺检查不对称栅极凹槽对AlGaAs / InGaAs PHEMT器件特性的影响
机译:凹槽蚀刻辅助抗蚀剂开口对栅极长度较短的InAlAs / InGaAs异质结FET的栅极沟槽形状的影响
机译:1.2 THz通过使用75nm栅极长度和非对称栅极凹槽来实现最大振荡频率,用于Ingaas / Inalas Phemt
机译:栅长短的栅凹氮化镓高电子迁移率晶体管。
机译:使用液相沉积的TiO2作为栅介质的AlGaAs / InGaAs PHEMT的亚阈值特性和闪烁噪声降低
机译:使用100nm栅长GaAs PHEMT的共面W波段低噪声放大器NMIC
机译:通过选择性侧壁凹陷消除Inalas / InGaas异质结中的台面 - 侧壁漏电