Toyota Technological Institute at Chicago;
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机译:通过化学机械平整化和化学后平整清洗原位测量研究Co表面反应
机译:脉冲激光烧蚀在ICF目标胶囊表面上孤立缺陷的平面化
机译:H_2退火中Ge(100),(110)和(111)表面的原子平面平坦化
机译:平坦化一个未知的表面
机译:用于化学机械和电化学机械平面化的水溶液中铜,钽和氮化钽表面的电化学研究。
机译:调节剂类型和下压力以及垫表面的微观结构对SiO2化学机械平面化性能的影响
机译:平面化未知曲面
机译:电热执行器采用四级平面化表面微加工多晶硅制造