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【24h】

Fabrication of Ni80Fe20 antidot nanostructures using KrF lithography

机译:KrF光刻法制备Ni 80 Fe 20 的点阵纳米结构

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摘要

We have fabricated arrays of nanometric ferromagnetic antidot structures over a very large area using KrF lithography at 248 nm exposure wavelength. The antidot structure displays novel magnetic properties which are different from the continuous film. We have characterized in detail both the magnetic and transport properties.
机译:我们已经在248 nm曝光波长下使用KrF光刻技术在很大的面积上制造了纳米铁磁解毒剂结构阵列。该解毒剂结构显示出不同于连续膜的新颖的磁性。我们已经详细描述了磁性和传输性能。

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