FSI International, POLARISreg;
Systems Services, 600 Millenium Dr., Allen, TX 75013 USA;
PEB uniformity; PEB delay; CD uniformity; thermal characterization; chemically amplified photoresist platforms; ArF processing;
机译:增强了利用点过滤器的清洁及其对浸没式磁带光刻过程中晶片缺陷的有效性
机译:浸入式ArF光刻工艺中使用点过滤器的增强清洁及其对晶片缺陷的有效性
机译:XTC光刻工艺的ArF光刻胶的设计与开发
机译:通过增强的热处理实现了90-NM设计规则光刻的ARF处理
机译:元规则增强了规则和流程的互操作性,以实现动态的组织间协作。
机译:借助具有穿空/键电荷转移的多(供体/受体)发射体使非掺杂溶液处理的天蓝色热活化延迟荧光OLED的外部量子效率达到21%
机译:XTC光刻工艺ARF光刻胶的设计与开发
机译:聚合物膜厚度和腔体尺寸对压花过程中聚合物流动的影响:纳米压印光刻的工艺设计规则