Tokyo Electron Kyushu Ltd. 1-1 Fukuhara, Koshi-machi, Kikuchi-gun, Kumamoto 869-1116, Japan;
immersion; defect; track process;
机译:与浸没式光刻相关的条件下的动态接触角的测量
机译:浸没式光刻中液体损失的临界速度研究
机译:通过劳氏镜使用浸没式光刻技术提高分辨率的研究
机译:浸入光刻中缺陷发电条件的研究
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:溶剂浸渍压印光刻:高性能半自动程序
机译:浸入式岩相双气体密封浸没装置的设计与实验研究