AZ Electronic Materials USA Corp. 70 Meister Ave. Somerville, NJ, 08876;
chemically amplified; thick film; electroplating; copper; positive photoresist; DNQ; novolak;
机译:在化学扩增的阳性厚膜抗膜抗溶解抑制剂的发展
机译:化学放大正色调厚膜抗蚀剂中溶解抑制剂的研制
机译:新型酯缩醛聚合物及其在正化学放大i线光刻胶中的应用
机译:用于电镀和再分配应用的化学放大,厚膜,I线阳性抗蚀剂
机译:砷化镓晶片的表面化学研究在化学放大的抗蚀剂构图过程中进行,并通过荧光进行抗蚀剂研究。
机译:湿法化学合成和厚膜氧化膜的筛选用于电阻式气体传感应用
机译:溶出抑制剂在化学扩增的阳性厚膜抗蚀剂中的发展