Laboratory of Advanced Science amd Technology for Industry, University of Hyogo 3-1-2, Kouto, Kamigoori-cho, Akou-gun, Hyogo 678-1205, Japan;
EUVL; high sensitivity; chemically amplified resist; onium salts;
机译:光致酸键合抗蚀剂中光酸产生剂的优化
机译:光酸产生剂浓度对化学放大抗蚀剂的灵敏度,光酸产生和脱保护的影响
机译:光偶联发电机 - 聚合物相互作用对极端紫外光刻的化学放大抗蚀剂的量子产率
机译:欧盟CA抗蚀剂光酸发电机的优化
机译:使用埋入式电极和优化的阵列改进的2D和3D电阻率测量:多电极电阻率注入技术(MERIT)
机译:用于紫外或近紫外LED的碘鎓盐的设计用于光酸产生剂和聚合目的
机译:含有用于原子力显微镜光刻的光酸发生剂组的抗蚀剂的合成