The Institute of Scientific Industrial Research, Osaka University, 8-1 Mihogaoka, Ibaraki, Osaka 567-0047, Japan;
chemically amplified resists; acid generation; electron beam; halogenation; coumarin6;
机译:一种用于157nm光刻的新型光致抗蚀剂材料3:聚[2-羟基-3-氧杂戊基乙烯基磺酸酯-co-4-(1,1,1,3,3,3-六氟-2-羟丙基)苯乙烯]
机译:1,4-双(1,1,1,3,3,3,3-六氟-2-羟基-2-丙基)苯的硅化和硅烷化反应
机译:亚胺与芳基乙炔在1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇中的意外反应,无金属合成氯化的β-氨基酮
机译:聚4-羟基苯乙烯-CO-4-(1,1,1,3,3,3-六氟-2-羟丙基) - 苯乙烯的反应机理
机译:醇的分子间相互作用:甲醇,2,2,2-三氟乙基土地1,1,1,3,3,3-六氟-2-丙醇
机译:链 - 和区域选择性乙烯和苯乙烯的二聚反应通过定义良好的阳离子钌氢化物络合物催化:新的苯乙烯二聚化机制见解
机译:2,6-二异丙基苯酚和1,1,1,3,3-六氟-2-(氟甲氧基)丙烷作为麻醉剂的影响
机译:用丙烷,1,1,1,3,3,3-六氟 - (星1)进行生物降解试验的结果。