Polymers Division, National Institute of Stards Technology, Gaithersburg, MD, 20899;
photolithography; photoresists; diffusion; reaction rate constants; FTIR; copolymer; photoacid; PAG;
机译:基于降冰片烯与胆汁酸衍生物的193 nm光致抗蚀剂
机译:基于降冰片烯与胆汁酸衍生物的193 nm光致抗蚀剂
机译:酸催化聚合物膜脱保护反应动力学
机译:193nm型光致抗蚀剂模型中酸催化脱保护反应动力学的共聚物分数效应
机译:I.叔芳基磺酰胺作为镍催化的Kumada-Corriu-Tamao还原和碳-碳键形成交叉偶联反应的新交叉偶联伴侣。二。在温和的镍(0)下N-磺酰基脱保护催化了Kumada-Corriu-Tamao偶联条件和N-Ans保护基的发展。三, 3,3'-二-(2-吡啶基)-1,1'-bi-2-萘酚配体的合成及应用
机译:ENZO:用于推导和评估酶催化反应动力学模型的网络工具
机译:酸催化反应的模拟:从头到尾与实验动力学数据对比
机译:从质子吸附平衡到酸催化反应动力学的金属氧化物的表面不均匀性影响。总结报告