Tokyo Electron Kyushu Ltd., 1-1 Fukuhara, Koushi-machi, Kikuchi-gun, Kumamoto-ken 869- 1116, Japan;
immersion; pre-rinse; post-rinse; swelling; bridge; watermark; topcoat;
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:光酸发生剂浸出对193 nm浸没式光刻中光学光污染的影响
机译:使用接口曝光轨道系统优化193-NM浸入光刻的缺陷
机译:全球定位系统(GPS)跟踪功能可表征儿童接触农药的情况。
机译:流动吸入暴露于纳米粒子的空气液界面系统的参数优化:评估CEO的剂量测定和细胞内吸收
机译:用于193 nm浸没式光刻的非化学放大抗蚀剂:吸光度对性能的影响