Freescale Semiconductor, Inc., Austin, TX 78721;
193nm; resist; fluorination; line-end pullback; gate; etch;
机译:通过氟等离子体处理提高酚醛清漆型负性抗蚀剂的蚀刻选择性和稳定性
机译:通过气相氟化通过气相氟化在空气,真空和SF6中的环氧树脂/ Al2O3纳米复合材料的表面闪络特性显着改善
机译:PLA上的气相氟化可提高细胞粘附和展开
机译:用于改善蚀刻期间的抗蚀剂的气相氟化
机译:嵌段共聚物在压缩二氧化碳中的相行为以及作为单畴层纳米光刻抗蚀剂的亚10纳米图案转移
机译:PLA上的气相氟化可改善细胞粘附和传播
机译:PLA上的气相氟化可提高细胞粘附和展开
机译:三甲胺中氟化反应的影响:CF3N(CH3)2和(CF3)2NCH3的气相结构