Electronic Material Division, Dongjin Semichem Inc., Ltd., 625-3, Yodang-Ri, Yanggam-Myun, Hwasung-City, Kyungki-Do, Korea, 445-930;
chemically amplified resist; dissolution behavior; deprotecting reaction; bulkiness; activation energy;
机译:用石英晶体微天平(QCM)方法研究聚合物结合和聚合物共混光致产酸剂(PAG)的溶解行为
机译:聚(4-羟基苯乙烯)作为化学增强型抗蚀剂模型聚合物的极紫外光刻技术的溶解行为研究
机译:聚(4-羟基苯乙烯)作为化学增强型抗蚀剂模型聚合物的极紫外光刻技术的溶解行为研究
机译:根据聚合物保护基团的抗蚀剂溶解行为
机译:使用电阻层析成像(ERT)进行的溶出度扩大的骨折成像。
机译:吗啡聚合物配合物的体外评估:流动性行为和溶出度研究
机译:基于酚醛清漆和T-BOC保护磷腈的新型化学放大抗蚀剂系统作为溶解抑制剂。
机译:甲基丙烯酸酯基电子束抗蚀剂聚合物降解和选择性溶解的化学因素:核磁共振和电子自旋共振研究