Dept. of Electrical Engineering, Universite de Sherbrooke, Sherbrooke, Qc, Canada, J1K 2R1;
electron beam lithography; conformal resist; membrane patterning; self-aligned gate patterning;
机译:电子投影和电子束直接写入光刻中的图像形成
机译:通过在模拟抗蚀剂上使用电子束直接写法和单一化学辅助离子束刻蚀步骤来制造单质衍射光学元件
机译:基于电子束蒸发和PECVD的SiO_2基双钝化方案在AlGaN / GaN HEMT中用于表面钝化和栅氧化的比较
机译:使用蒸发的电子束抗蚀剂自对准双面晶体管栅极上的双面晶体管栅极
机译:通过液相外延生长的铌酸锂薄膜中的直接写入电子束亚微米域工程。
机译:电子束沉积栅极电介质对a-IGZO薄膜晶体管的沟道宽度相关性能和可靠性的比较研究
机译:高性能有机场效应晶体管,具有定向对齐的共轭聚合物薄膜沉积在预聚集溶液中