Institut Fresnel -Unite Mixte de Recherche 6133, Centre National de la Recherche Scientifique, Ecole Nationale Superieure de Physique de Marseille, 13397 Marseille cedex 20 France;
antireflection surfaces; diffraction gratings; infrared; homogenization theory; effective medium theory; modal method; wet anisotropic etching;
机译:使用SiCl_(4)/ Cl_(2)/ Ar基电感耦合等离子体干法刻蚀在GaN中制备低维波导光栅
机译:使用SiCl 4 sub> / Cl 2 sub> / Ar基电感耦合等离子体干法刻蚀在GaN中制备低维波导光栅
机译:用SiCl_4 / Ar电感耦合等离子体刻蚀在InP中制作v形槽光栅
机译:用于红外线的BiPeriodic AR光栅的设计和制造
机译:具有相位掩模的光纤布拉格光栅的超快红外激光制造。
机译:用于中红外应用的微米级薄膜硅固体浸没透镜的设计与制造
机译:用于红外光谱的硅浸入光栅的制备和性能
机译:可调谐量子阱红外光电探测器(QWIp),偏振敏感QWIp和增强耦合光栅结构的制作