CREST-JST Research Institute for Electronic Science, Hokkaido University, CRIS Bldg., North 21 West 10, Sapporo 001-0021, Japan;
anisotropic wet etching; femtosecond laser microfabrication; ripple formation; microfluidics;
机译:高强度飞秒-UV脉冲刻画的各向异性光纤布拉格光栅:传感应用的制造技术和应变表征
机译:通过高强度飞秒激光脉冲在介电表面上制造的纳米通道
机译:高强度飞秒激光脉冲辐照的C-60各向异性库仑爆炸
机译:通过高强度飞秒脉冲暴露的电介质的各向异性蚀刻
机译:暴露于强飞秒激光脉冲的多电子原子的双电离。
机译:基于电子密度控制的时间脉冲整形可控的高通量高质量飞秒激光增强化学刻蚀
机译:使用飞秒激光脉冲和化学蚀刻制造高纵横比,微流体通道和隧道
机译:强飞秒激光脉冲传输到电介质中