SupraYield? A NEW TECHNOLOGY TO FOR MEMS LITHOGRAPHY AT LOW CoO

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• 来源
  《8th International conference on commercialization of micro and nano systems (COMS 2003)》|2003年|331|共1页
• 会议地点 Amsterdam(NL);Amsterdam(NL)
• 作者

  Christian Ossmann; Dietrich T?nnies;

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• 作者单位

  Süss MicroTec AG, Schleissheimerstr. 90, 85748 Garching b.M., Germany;

  rnSüss MicroTec AG, Schleissheimerstr. 90, 85748 Garching b.M., Germany;

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• 会议组织
• 原文格式 PDF
• 正文语种 eng
• 中图分类
• 关键词

• 入库时间 2022-08-26 13:58:35