Synopsys, Inc. 700 E. Middlefield Road, Mountain View, CA 94043;
CD uniformity; distributed processing; model-based lithography verification; edge-placement detection;
机译:基于改进光学光刻成像模型的关键尺寸变化研究
机译:在下一代光刻中使用基于高级临界尺寸扫描电子显微镜的轮廓进行高精度光学邻近校正建模
机译:在下一代光刻中使用基于高级临界尺寸扫描电子显微镜的轮廓的高精度光学接近校正模型
机译:采用基于模型的光刻验证的全芯片多栅极关键尺寸控制
机译:基于相对时序的验证和设计,以及对延迟不敏感的信号路径建模以及在现场可编程门阵列中的应用。
机译:基于高维输入/输出空间的同时降维的空间模型预测的替代模型
机译:基于光刻仿真的全芯片设计分析