Dai Nippon Printing Co., Ltd., 2-2-1 Fukuoka, Fujimino-shi, Saitama 356-8507, Japan;
45nm node; alternating aperture PSM (Alt-PSM); immersion lithography; 3D simulation;
机译:偏振照明对45 nm节点ArF浸没光刻法中高NA成像的影响
机译:面向32 nm节点ArF浸没光刻的双图案化材料和工艺的开发
机译:分辨率增强技术对45 nm节点ArF浸没式光刻术像差灵敏度的影响
机译:45NM节点ARF浸入光刻的ALT-PSM结构优化
机译:用于浸没式光刻的水性和有机液体的折射率和吸收率。
机译:溶剂浸渍压印光刻:高性能半自动程序
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