Intel Corporation, 2200 Mission College Blvd, MS/SC1-03, Santa Clara, CA, USA 95052;
mask blank inspection; extreme ultraviolet lithography; confocal imaging; sensitivity improvement; tool correlation;
机译:使用EUV光发射电子显微镜检查EUVL掩模的空白缺陷和图案化掩模
机译:使用空白检查,图案化掩模检查和晶圆检查来评估极端紫外线掩模缺陷
机译:通过EUV图案晶圆的全芯片光学检测来检测可印刷的EUV掩模吸收层缺陷和缺陷添加物
机译:关于共聚焦EUV掩模空白缺陷检测工具舰队的敏感性改进与互相关方法
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:在高影响麻醉学期刊上发表的系统评价中使用的评估质量或偏倚风险的方法学工具和敏感性分析
机译:EUV掩模空白的Sub 20粒子检查