KLA-Tencor, FINLE Division 8834 N. Capital of Texas Highway, Suite 301, Austin, TX 78759 USA;
lithography modeling; mask topography; PROLITH;
机译:下一代光刻技术的先进相移掩模的掩模形貌效应的基础研究
机译:极化对ArF超数值孔径光刻技术对衰减相移掩模的影响
机译:高级光学光刻中减毒相移掩模的三维掩模效应研究
机译:减毒相移掩模地形对超高性光刻的影响
机译:用于相移掩模设计的广义逆光刻方法。
机译:使用电子束光刻写入的相位掩模通过近场全息术制造的软X射线变化线间隔光栅
机译:极端紫外线的减毒相移掩模:它们是否可以减轻三维掩模效果?
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面