Intel Corporation, 2200 Mission College Blvd., Santa Clara, California 95054 U.S.A.;
ArF immersion lithography; mask; topography; polarization; resonance; diffraction; off axis illumination; pellicle transmission;
机译:高NA ArF光刻中深亚波长掩模特征的矢量成像
机译:高Na Arf光刻中深亚波长掩模特征的矢量成像
机译:直接成像由光学相位掩模产生的周期性亚波长图案
机译:亚波长掩模成像中的矢量效应
机译:EUV掩模技术的主要挑战:光化掩模检测和掩模3D效果。
机译:基于空间滤波和波矢量转换的远场声亚波长成像和边缘检测
机译:亚波长孔径和孔径阵列的太赫兹近场矢量成像