Intel Mask Operation, Intel Corporation, SC2-12, 2200 Mission College Blvd, Santa Clara, CA 95052;
Mask; APSM; Optical; Overlay; 2nd level; Tool-induced shift; Mask-induced shift;
机译:交替孔径相移光刻的面罩CD和覆盖测试结构
机译:在二进制和交替孔径相移掩模上进行电学和SEM CD测量的比较
机译:在二进制和交替孔径相移掩模上进行电学和SEM CD测量的比较
机译:光直流覆盖测量在65nm交替相移掩模的第二级过程中
机译:使用相移掩模在高数值孔径光刻中表征偏振照明。
机译:选择后的弱值测量控制相间不连续超表面的自旋霍耳位移
机译:通过使用具有特定相位宽度的交替相移掩模标记进行彗星测量
机译:使用光学光刻和相移掩模制造的红外频率选择表面