Xilinx Inc., USA;
inverse lithography technology (ILT); OPC; RET; lithography;
机译:减少掩模复杂度的反光刻技术新算法
机译:使用反光刻技术的双偶极子掩模合成
机译:反光刻技术的双图形掩膜生成方法
机译:逆光刻技术的现实影响
机译:基于线路搜索的掩模设计的逆光刻技术
机译:老龄化与技术—将研究转化为现实世界的影响
机译:利用单一计算光刻框架优化从设计规则,源和掩模到全芯片:基于水平集方法的逆光刻技术(ILT)