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【6h】 Impact of DUV exposure on reticle repairs

【摘要】

【会议名称】

【会议地点】Monterey,CA(US)

【作者】Vikram L. Tolani;Scott Chegwidden;Edgar C. Buenconsejo;Daniel Tanzil;Daniel J. Bald;

【作者单位】Intel Corporation, 2200 Mission College Blvd., Santa Clara, CA 95052;

【会议组织】

【会议召开年】2005

【页码】P.59921A.1-59921A.6

【总页数】6

【原文格式】PDF

【正文语种】eng

【中图分类】TN305.7;

【关键词】exposure;DUV;FIB;focused ion beam;repair;defect;overspray;halo;carbon;deposition;reticle;photomask;

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