Department of Electrical and Electronic Engineering, The University of Hong Kong, Chinac;
Hf-doped BaTiO3; charge-trapping layer; flash memory;
机译:利用垂直介电层来改善闪存设备的操作性能
机译:通过使用电荷陷阱层的带隙工程,利用Al2O3电介质改善了电荷陷阱型闪存的性能
机译:掺钇的$ hbox {Al} _ {2} hbox {O} _ {3} $作为闪存应用的中间介电材料的性能得到改善
机译:提高HF掺杂BATIO3作为闪存应用的电荷拖曳层的性能
机译:提高基于闪存的固态存储系统的性能和可靠性。
机译:通过薄型转型提高石墨箔/聚苯胺电极材料的性能:PSS层用于柔性高功率超级电容器的应用
机译:改进了Hf掺杂的BaTiO3作为闪存应用的电荷俘获层的性能