氩等离子体处理对表面传导电子发射源电子发射特性的影响

摘要

为进一步提高基于W-Mo-Si导电薄膜的表面传导电子发射性能，采用氩等离子体对导电薄膜进行处理并分析其对电子发射特性的影响。实验结果表明，经过氩等离子体处理的W-Mo-Si薄膜的电子发射效率得到明显的提高。