诱导脱铜靶向脱杂技术的研究与应用

摘要

现有工艺控制可使杂质砷锑秘同脱除，无法满足某一杂质迫切需要将其控制在技术条件内的要求，杂质随脱铜终液返回电解系统，困扰着产品阴极铜质量。针对原诱导脱铜槽"串联+辅助给液"的供液方式、杂质同步脱除的特点,通过现场小幅改造实现"并联单槽"的给液方式,融合机理、产出物黑铜渣XRD谱图,掌握脱铜脱杂过程杂质析出规律,实现了每槽产品的可控性,提高料对工艺的适应性。