微机械可调式光学衰减器的研制

摘要

本文研制了一种电磁驱动的微机械可调式光学衰减器.该衰减器是利用非硅表面微加工工艺制作的,这种工艺采用光致抗蚀剂和溅射铜薄膜作为牺牲层,电镀铁镍层作为结构层来制作MEMS元件.这种衰减器由电镀铁镍层构成的一个插在两对准光纤空隙中的挡光片,一个平面电感线罪状,一个硅弹簧和二个带有V型槽的光纤对准元件构成.由电镀铁镍制作的挡光片被固定在一个硅弹簧上,该挡光片是采用非硅表面微加工工艺制作的.平面电感线圈是利用高深宽比的光刻工艺和电镀工艺来制作的.硅弹簧和光纤对准元件是采用反应离子刻蚀和硅的各向异性腐蚀工艺制作的.