DC-RF-PECVD制备DLC薄膜的摩擦学性能研究

摘要

利用直流-射频等离子体增强化学气相沉积(DC-RF-PECVD)技术在单晶硅表面制备了类金刚子：(DLC)薄膜。采用Raman光谱和原子力显微镜(AFM)等研究了薄膜的微观结构和表面形貌，在UMT-2MT摩擦试验机上考察了不同摩擦对偶对薄膜摩擦学性能的影响。结果表明：制备的薄膜具有典型的含氢类金刚石结构特征，薄膜均匀、致密，表面租糙度小，硬度较高。薄膜与高硬度材料对磨时，磨擦系数低而稳定，仅出现轻微的粘着磨损；而薄膜与低硬度材料对磨时，磨擦系数高而不稳定，薄膜呈现严重的磨粒磨损特征。