磁控溅射热致变色薄膜可变发射率特性

摘要

采用射频磁控溅射方法在氧化锆(YSZ)基片上制备了掺杂锰酸镧热致变色薄膜.实验研究了热致变色薄膜的晶体结构、表面形貌、掺杂元素及热辐射特性,分析了掺杂深度对热致变色薄膜热辐射特性的影响,结果表明热致变色薄膜发射率随温度升高而增大,表现出热致可变发射率特性,其发射率变化范围和相转变温度区间受掺杂元素和溅射条件的影响较大,特别在溅射压力为0.8Pa,O2/(O2+Ar)比为20％,厚度为0.9μm时,La0.7Sr0.3MnO3热致变色薄膜发射率在相转变温度点附近发生明显变化,从97K时的0.24增加到313K时的0.62,变化了0.38.