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PECVD法制备氮化硅减反射膜研究

摘要

氮化硅薄膜作为一种新型的太阳电池减反射膜已经被工业界逐渐认识和应用.本文应用PECVD(等离子体增强化学气相沉积)系统,以硅烷和氨气为气源制备了同时具有钝化作用和减反射作用的氮化硅薄膜,并研究了在沉积的过程中,衬底温度、硅烷氨气流量比和射频功率对薄膜折射率和生长速率的影响.

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