火焰水解法制备掺锗二氧化硅膜的光致折变研究

摘要

本文研究了火焰水解法制备的掺锗二氧化硅膜在 KrF 紫外激光下曝光后的结构和光学性质的变化。经过 10 分钟的照射后，在 1550nm 处的折射率变化大约为 3.41×10-3。采用原子力显微镜分析了曝光过程及膜的表面形貌，随着曝光时间的增长，膜的致密性增加，表面粗糙度下降，折射率增大。