不同偏压下铀表面多弧离子镀TiN薄膜性能研究

摘要

不同偏压下利用多弧离子镀技术在U基体上制备了TiN薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)分析了薄膜的微观组织结构,采用扫描电镜(SEM)观察了其表面形貌.结果表明：所得薄膜为单一TiN结构,薄膜表面平整,致密,但局部仍存在大颗粒.摩擦磨损实验测定了薄膜的磨损性能,随偏压的上升,摩擦系数由0.421变为0.401.同时利用X射线光电子能谱分析仪(XPS)对湿热腐蚀考核20天后的样品进行了分析,并利用电化学极化实验在O.5μm/gC1-溶液中测试了基体及薄膜耐蚀性能.结果表明TiN涂层提高了贫铀的抗腐蚀性能.